这次任务摊在他们身上的应不算重。 重的应该是那些十年如一 都在攻克光学镜片的科研小组，他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。 但是从来没有像这次一样急迫，因为美国和岛国等国家的 迫, 现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。 这年来国内也有一定的科研成果。 2017年smee就验收了90nm光刻机，马上就具备了成本优势和企业规模, 占据了全国60%的市场，全球40%的市场。 外国怎么能不害怕。 目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。 221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线，这才是华夏老大难的问题。 而不是有没有这个技术的问题。 宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机，进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。 其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。 28nm的光刻机在悄悄研发，目前已经在国家验收当中。 宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改 ，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。 这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。 别人过去二十年用的是car，这几年都是在考虑金属氧化物或者干光刻胶，富勒烯……这是个什么玩意儿？ 富勒烯能够量产了？ 别问，问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。 他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技，要中试要放大要实现产业化， 给他们了！ 而且这还不是它的终点，富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。 作为拥有它们资料的人，宋问声是再清楚不过的了。 咱们华夏藏着一些技术，外国未必没有，去年年底的时候，asml即已经提出了3nm光刻机产业化。 他们甚至想要延续摩尔定律，将半导体工艺再未来几年内推进到1nm，但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。 各种各样的东西桎梏着发展。 材料、设备、制造…… 他们一个一个问题都被解决了，剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。 可是在asml收购美国光源制造商cymer之后，光源问题得到了解决，那就剩下一个问题——光刻胶。 他们认为是光刻胶技术的限制让他们无法突破到1nm。 因此这些年来材料商想尽各种办法解决，但是效果不尽如人意。 富勒烯光刻胶是被宋问声给予厚望的东西，在系统给出的方案里，他已经看到了它们的应用前景。 包括不仅限于1nm的光刻胶技术。 这个潜力上面的人目前还没有察觉到，毕竟现在只是在华科秘密试验生产，考察团只是看了一些数据。 宋问声他们三人小组目前的主要任务就是改光刻胶，让它们突破14nm的桎梏，最好到达7nm。 时间足够长的话这并不是什么紧急任务，但是应富华提醒了他们时间才是最重要的问题。 所以本来松了一口气的三个人还是稍微拉紧了一点皮。 第一天就是在讨论总体路线，其实和光刻胶小组关系并不算太大，光刻机那边是一个整体，光刻胶对他们影响不大。 但是宋问声还是听得很认真，在这个过程当中他也算是学习吧。 被分配到他们这边的学者基本上和曹能能他们有些联系，曹能能和吴勇也算是国内光刻胶翘楚，是山头，又以宋问声为主，所以光刻胶小组才见第一面就全部被宋问声收服了。 整个小组里有的人可能知道，也可能不知道，但也并不耽误宋问声对他们说接下来的规划路线。 此时此刻，曹能能和吴勇充当了狗腿子，分发宋问声花了一点时间整理出来的资料和路线。 宋问声站在主位，目光带着一点威势扫视着他们，大家噤声不敢言。 其实宋问声是在看系统弹 出来的光屏，那是是一个新任务。 很久没有接过任务，宋问声都有些恍然了。 现在的他最期待的还是完成任务的奖励，如果是 奖那就更好了。 之前几次奖，他都看见奖池里有不少的好东西。 “系统任务：请宿主在光刻机攻克计划当中有一定的贡献，奖励程度视贡献而定。贡献程度：0/100%。” “接受。” 收起光屏，宋问声看见这些人都乖乖的低头看路线，他点头，在黑板上写下总路线。 三十分钟之后，他问，“有人有疑问吗？” 一个三十多岁带着眼睛的男人，颤颤巍巍的举起手试探道，“富勒烯，我们国内好像没有这样的技术，世界上也是没有的。” 大家一下子用看勇士的目光看向他。 宋问声点头，并不隐瞒，事实上这里也有部分人是知道的，“开年的时候，我就已经了一份类似技术给华科，相信在座的同僚有不少是知道业内消息的。” “还有问题吗？”宋问声的目光在他们身上梭巡。XIAｐe.CoM |
都在攻克光学镜片的科研小组，他们参加过很多次类似于这种光刻机攻克计划。 但是从来没有像这次一样急迫，因为美国和岛国等国家的
迫, 现在国家的光刻事业已经站在了决战边缘。 这年来国内也有一定的科研成果。 2017年smee就验收了90nm光刻机，马上就具备了成本优势和企业规模, 占据了全国60%的市场，全球40%的市场。 外国怎么能不害怕。 目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。 221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线，这才是华夏老大难的问题。 而不是有没有这个技术的问题。 宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机，进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。 其实smee在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。 28nm的光刻机在悄悄研发，目前已经在国家验收当中。 宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改
，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。 这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。 别人过去二十年用的是car，这几年都是在考虑金属氧化物或者干
给他们了！ 而且这还不是它的终点，富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。 作为拥有它们资料的人，宋问声是再清楚不过的了。 咱们华夏藏着一些技术，外国未必没有，去年年底的时候，asml即已经提出了3nm光刻机产业化。 他们甚至想要延续摩尔定律，将半导体工艺再未来几年内推进到1nm，但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。 各种各样的东西桎梏着发展。 材料、设备、制造…… 他们一个一个问题都被解决了，剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。 可是在asml收购美国光源制造商cymer之后，光源问题得到了解决，那就剩下一个问题——光刻胶。 他们认为是光刻胶技术的限制让他们无法突破到1nm。 因此这些年来材料商想尽各种办法解决，但是效果不尽如人意。 富勒烯光刻胶是被宋问声给予厚望的东西，在系统给出的方案里，他已经看到了它们的应用前景。 包括不仅限于1nm的光刻胶技术。 这个潜力上面的人目前还没有察觉到，毕竟现在只是在华科秘密试验生产，考察团只是看了一些数据。 宋问声他们三人小组目前的主要任务就是改
出来的光屏，那是是一个新任务。 很久没有接过任务，宋问声都有些恍然了。 现在的他最期待的还是完成任务的奖励，如果是
奖那就更好了。 之前几次